ALÜMİNA (AL2O3), ALÜMİNYUM NİTRİT (ALN), SİLİKON NİTRİT (SI3N4) VE DİĞER SERAMİK MALZEMELERE BAĞLI ALT TABAKALAR

Elektronik Endüstrisi İçin Teknik Seramiklerden Yüzeyler, Gofretler

Alümina (Al2O3), Alüminyum nitrür (AlN), Silikon nitrür (Si3N4) ve diğer seramik malzemeleri esas alan alt tabakalar, özelliklerinden dolayı elektronik endüstrisinde yaygın olarak kullanılmaktadır.

Ana uygulamalar:

• seramik baskılı devre kartlarından (PCB) kalıplar;
• kalın film ve ince film teknolojilerinde metalizasyon için substratlar;
• ince film teknolojisinde metalizasyon için cilalı yüzeyler;
• LED'ler, lazer diyotlar için alt tabakalar;
• mikrodalga entegre devreler ve kristaller için yüksek yoğunlukta delik ve oluk içeren mikro montajlar için hassas yüzeyler;
• dirençler, reostatlar, yakıt seviye sensörleri, basınç vb. setleri için çoklu panolar;
• zehirli maddeler, iyonlaştırıcı radyasyon, manyetik alan vb. sensör devresinin taşıyıcıları;
• hava iyonlaştırıcılar ve ozonlayıcılar için gofretler ;
• elektronik bileşenlerden soğutma radyatörüne ısıyı uzaklaştırmak için yalıtım pedleri;
• piezoelektrik dönüştürücülerin elemanları için koruyucular;
• düz ısıtma elemanlarının tabanları ve tutucuları, yüksek güçlü yarı iletken cihazların kristalleri;
• termoelektrik modüller için plakalar (Peltier elemanları);
• radyo frekansı plazma jeneratörleri için ekranlar.

Alümina (Al2O3) ürünlerinin uygulama özellikleri

Alümina (Al2O3), mükemmel bir malzeme özellikleri ve en düşük maliyet kombinasyonuna sahiptir.Yüksek mekanik mukavemet, sertlik, aşınma direnci, yangın direnci, termal iletkenlik, kimyasal atalet, bazı durumlarda üretim maliyetini azaltmak için daha pahalı malzemelerin değiştirilmesine izin verir.
Al2O3 içeriği %96 ile %99,7 arasında, kalınlık 0,25 mm arasında değişmektedir.Yüzey parlatılabilir veya parlatılabilir, metalize edilebilir ve herhangi bir geometri mümkündür.

Alüminyum nitrür (AlN) ürünlerinin uygulama özellikleri

Mükemmel yalıtım özellikleri, yüksek ısıl iletkenliği, mukavemeti ve düşük ısıl genleşme katsayısı nedeniyle, alüminyum nitrür AlN, yüksek güçlü elektronik cihazlarda, yalıtımlı kapılı bipolar transistörlerde (IGBT), iletişim sistemlerinde, LED göstergelerde, pasif bileşenlerde, soğutma cihazlarında kullanılır. , bileşenlerin bakır yüklü lehim üzerinde doğrudan bağlantısı.AlN içeriği %96 ile %99,7 arasında, kalınlık 0,25 ile 11 mm arasında değişmektedir.İnce film ve kalın film yapıları için işleme seçenekleri: cilalı yüzey ve cilalı yüzey.Metalizasyon ve herhangi bir geometri mümkündür.

Silikon nitrür (Si3N4) ürünlerinin uygulama özellikleri

Silisyum nitrür (Si3N4), sürekli termal döngüde, derin vakumda, artan sürtünme rejiminde ve diğer ağır çalışma koşullarında olağanüstü mekanik özelliklere sahiptir.Mükemmel aşınma direnci ve çok yüksek eğilme mukavemeti, alt tabakaların 0,3 mm kalınlığında yapılmasına izin verir, bu da düşük termal direnç değerleri verir (1.0 mm kalınlığındaki alüminyum nitrür ile karşılaştırılabilir), aynı zamanda geniş bir sıcaklıkta stabil olan mekanik özellikleri önemli ölçüde geliştirir agresif bir ortamın aralığı ve diğer koşulları.

Silisyum nitrür, diğer seramik malzemelere kıyasla yüksek radyasyon direncine, korozyon direncine ve önemli ölçüde elektriksel dayanıma sahiptir.